ASMLEUV是半导体设备供应链搅局者L

ASML EUV是半导体设备供应链搅局者，Lam Research/应用材料/KLA Tencor未来日子不好过

ASML股票在1月17日上涨了7％，以199.18收盘，因为ASML公布了过去12个月的季度销售情况，为 0.7亿美元，实现同比增长5 ％，超过其预期的25.2亿美元。ASML实现了7.7亿美元的利润，远超出了5.44亿美元的分析目标。

与此同时，Lam Research股票上涨7.7％至205.08，应用材料上涨5.2％至57. 4，KLA Tencor上涨5.4％至11 .49。

首先，我将先对ASML主宰光刻行业进行介绍；然后，我对我的观点——ASML盈利表现良好对Lam Research、应用材料、KLA Tencor是不利的，进行解读。

换句话而言，尽管所有的股票都是随着ASML财报情况的宣布而出现飙升，但这释放出一个信号，就是应该买票其他股票而不是买入。

对于逻辑器件、存储器件等主流IC行业，可以利用不同技术实现10nm以下工艺的光刻机企业有三家：

荷兰ASML–EUV（极紫外光）光刻

日本尼康–浸没式DUV（深紫外光）光刻

日本佳能–纳米压印光刻（NIL）

最初，这三家企业都是从制造传统光学光刻设备，其技术可追溯二十世纪八十年代。随着摩尔定律的演变，它们的产品也在发生变化。如图1所示，有多种技术可用于在晶圆表面上复制光掩模。

图1

ASML、尼康与佳能于2016年，在不同行业起到了领导性作用。图2是I-line stepper市场份额情况，I-line stepper可为所有类型光刻工具提供最低分辨率，售价在4~6百万美元。出售的79种工具中，大部分是升级版，因为它们的鼎盛时期在1990年初，但它们仍然被应用于需要低分辨率的芯片上。

图2

佳能在2016年以57％的市场份额率称霸I-line产业。实际上，佳能是光刻工具市场的领导者，以最低的价格提供最低的分辨率。

接下来是KrF DUV，它使用KrF激光作为光源，分辨率更小。图 是这个市场的情况图。ASML以69.5％的份额稳坐KrF行业老大地位，其82种工具的售价在万美元之间。

图

ArF（dry）扇区，它使用更高分辨率的ArF激光器作为波长19 nm的光源。尼康是该市场的领导者，占据60%以上的市场份额，售价为2500万美元。佳能并未参与到这个市场中。

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