液晶显示核心材料导电薄膜ITO的应用及缺

　　ITO：

　　ITO 是Indium Tin Oxides的缩写，即掺锡氧化铟。是透明导电氧化物TCOs的一种，由于最好的导电性和透明性的组合性能，成为最主要的透明导电材料，主要应用于器，，太阳能薄膜电池，照明用元件等领域。

　　氧化铟，只吸收紫外光，不吸收可见光，因此达到 透明 的表现。掺锡，虽然会损失透光度，但可以提高导电能力。因此，透光度和导电性是两个相互牵制的指标。

　　ITO原料，ITO粉，称为ITO靶材。将ITO靶材沉积到PET基板上，就形成ITO导电薄膜；将ITO靶材沉积到玻璃基板上，就形成ITO导电玻璃。

　　现在发展最成熟，使用最多的ITO沉积工艺是磁控溅射法，即用高能粒子轰击靶材，使靶材中的原子溅射出来，沉积在基底表面形成薄膜的方法。比其他真空蒸发、热解喷涂、化学气相沉积、溶胶-凝胶等方法效果都要好。

　　ITO薄膜的导电性能，不仅与ITO薄膜材料的组成（包括锡含量和氧含量）有关，同时与制备ITO薄膜时的工艺条件（包括沉积时的基片温度、溅射电压等）有关。

　　影响ITO薄膜导电性能的几个因素包括：ITO薄膜的面电阻（ ）、膜厚（d）和电阻率（ ），这三者之间的相互关系是： = /d，即为了获得不同面电阻的ITO薄膜，实际上就是要获得不同的膜厚和电阻率。 从上述公式可以看到，ITO薄膜的导电性要好（即面电阻值要低），在电阻率一定的情况下，膜厚要增加，这样会导致ITO薄膜的透光性能下降，反之亦然。所以，ITO薄膜电阻率的大小是ITO薄膜制备工艺的关键，要获得好的透光度和导电性，就需要尽量小的电阻率（ ）。

　　影响电阻率（ ）大小的因素主要包括载流子浓度、载流子迁移率等，载流子浓度或载流子迁移率越大，薄膜的电阻率就越小。在控制条件上，载流子浓度可以通过调节ITO沉积材料的锡含量和氧含量来实现，而载流子迁移率则与ITO薄膜的结晶状态、晶体结构等相关，可以通过调节薄膜沉积时的沉积温度、溅射电压和成膜条件等来实现。

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